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江蘇大學(xué)Dawei Cao/ Yuan Liu團(tuán)隊(duì)--通過(guò)優(yōu)化石墨烯上的氧基團(tuán)來(lái)簡(jiǎn)便制備高性能自支撐微型超級(jí)電容器
       無(wú)基底或集流體的自支撐微型超級(jí)電容器(MSC)器件在實(shí)際應(yīng)用中頗具潛力。然而,由于需要優(yōu)化活性位點(diǎn)、電導(dǎo)率、離子擴(kuò)散、圖案控制以及解決對(duì)濕度敏感等問(wèn)題,制備高性能的自支撐 MSC 器件仍然頗具難度。 本文提出,由于 sp2 和 sp3 雜化的平衡,優(yōu)化石墨烯上的含氧量有望滿足這些需求。使用中等氧化程度的石墨烯,可輕松獲得柔韌性好、導(dǎo)電、耐水且易于加工的薄膜,這有利于制備自支撐 MSC 電極。與凝膠電解質(zhì)組裝后,該自支撐 MSC 器件在使用水凝膠電解質(zhì)時(shí),質(zhì)量負(fù)載約為10 mg cm-2的情況下,展現(xiàn)出898.4 mF cm-2的高電容;使用離子凝膠電解質(zhì)時(shí),電容為383.6 mF cm-2。相應(yīng)地,該 MSC 器件在功率密度為0.85 mW cm-2時(shí),可實(shí)現(xiàn)42.6 µWh cm-2的標(biāo)志性能量密度(在功率密度為141.7 mW cm-3時(shí),能量密度為7.1 mWh cm-3)。高性能、制備簡(jiǎn)便以及非活性成分少等優(yōu)點(diǎn),使得這種自支撐 MSC 器件在實(shí)際應(yīng)用中前景廣闊。
 
 
Fig 1. a - d)自支撐微型超級(jí)電容器(MSC)的示意圖:a)高氧化還原位點(diǎn)與快速電荷轉(zhuǎn)移。b)邊緣處的快速離子擴(kuò)散。c)多樣性與精確加工。d)電解質(zhì)保持與耐水穩(wěn)定性。e - h)優(yōu)化氧基團(tuán)的優(yōu)勢(shì):e)平衡活性位點(diǎn)與電導(dǎo)率。f)形成多孔結(jié)構(gòu)。g)低能量刻寫(xiě)與高效散熱。h)將電解質(zhì)與石墨烯片結(jié)合。
 
 
Fig 2. 不同氧化程度石墨烯片的微觀結(jié)構(gòu):a - c)高氧化石墨烯(G - H)、中等氧化石墨烯(G - M)和低氧化石墨烯(G - L)的原子力顯微鏡(AFM)圖像(插圖為對(duì)應(yīng)白色線條的高度輪廓)。d - i)G - H、G - M和G - L樣品的寬范圍及精細(xì)掃描C1s X射線光電子能譜(XPS)、傅里葉變換紅外光譜(FT - IR)、X射線衍射(XRD)、拉曼光譜以及zeta電位。
 


Fig 3. a) 石墨烯薄膜簡(jiǎn)易制備流程示意圖。b - j) 高氧化石墨烯(G - H)、中等氧化石墨烯(G - M)及低氧化石墨烯(G - L)薄膜的應(yīng)力 - 應(yīng)變曲線、柔韌性、導(dǎo)電性、激光刻寫(xiě)效果、接觸角、水穩(wěn)定性及氮?dú)馕?- 脫附等溫線。
 


Fig 4. a - c)掃描速率為5毫伏/秒時(shí)的循環(huán)伏安(CV)曲線、電流密度為1.0安培/克時(shí)的恒電流充放電(GCD)曲線,以及高氧化石墨烯(G - H)、中等氧化石墨烯(G - M)和低氧化石墨烯(G - L)薄膜的面電容與電流密度的關(guān)系。d)掃描速率為5毫伏/秒時(shí),中等氧化石墨烯(G - M)的電容貢獻(xiàn)占比。e)高氧化石墨烯(G - H)、中等氧化石墨烯(G - M)和低氧化石墨烯(G - L)薄膜的電容性和擴(kuò)散性貢獻(xiàn)。f)高氧化石墨烯(G - H)、中等氧化石墨烯(G - M)和低氧化石墨烯(G - L)的電化學(xué)阻抗譜(EIS)圖(插圖為高頻范圍內(nèi)的EIS圖)。
 
 
Fig 5. a) 中等氧化石墨烯(G - M)微型超級(jí)電容器(MSC)的制備示意圖。b) 置于聚乙烯醇(PVA)/氫氧化鉀(KOH)凝膠電解質(zhì)中的自支撐G - M MSC器件圖片。c) 各種自支撐圖案化薄膜的圖像。d) 激光加工邊緣的掃描電子顯微鏡(SEM)圖像(插圖為邊緣的高分辨率SEM圖像)。e, f) G - M MSC在不同掃描速率和電流密度下的循環(huán)伏安(CV)曲線和恒電流充放電(GCD)曲線。
g) 不同質(zhì)量負(fù)載下G - M MSC的比電容。
 
 
Fig 6. a) 無(wú)基底的柔性自支撐微型超級(jí)電容器(MSC)的圖片。b、c) 中等氧化石墨烯(G - M)微型超級(jí)電容器(MSC)在不同掃描速率和電流密度下的循環(huán)伏安(CV)曲線和恒電流充放電(GCD)曲線。d) 不同電流密度和掃描速率下的面電容。e) 平面和彎曲狀態(tài)下的循環(huán)穩(wěn)定性(插圖為掃描速率為 10 毫伏 / 秒時(shí)不同彎曲角度下的循環(huán)伏安曲線)。f) 由自支撐微型超級(jí)電容器(MSC)點(diǎn)亮的發(fā)光二極管(LED)的照片。g) 10 個(gè)串聯(lián)的微型超級(jí)電容器(MSC)在平坦和彎曲狀態(tài)下的圖片及其在 20 毫伏 / 秒時(shí)的循環(huán)伏安曲線。h) 中等氧化石墨烯(G - M)微型超級(jí)電容器(MSC)與已報(bào)道結(jié)果的能量和功率密度對(duì)比。i) 與其他微型超級(jí)電容器(MSC)器件相比,這項(xiàng)工作的優(yōu)勢(shì)。
 
        相關(guān)研究工作由江蘇大學(xué)Dawei Cao/ Yuan Liu團(tuán)隊(duì)于2024年在線發(fā)表在《Small》期刊上, Facile Preparation of High-Performance Free-Standing Micro-Supercapacitors by Optimizing Oxygen Groups on Graphene,原文鏈接:https://doi.org/10.1002/smll.202404307

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